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リソグラフィー

リソグラフィー(フォトリソグラフィー)とは、物質の表面に感光性の物質を塗り、表面をパターン状に露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを創り出す技術です。半導体リソグラフィーなどとも呼ばれ、半導体素子や液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられています。

レーザーを使用することで、様々なパターン回路を直接作成できます。サーマルプレートは高パルスレーザーを必要としますが、ポリマープレートやハロゲン化銀プレートは400~700nmの波長範囲で低いエネルギーを必要とします。生成物の強度の違いをなくすために、レーザーの出力が安定していることが重要です。また、ポインティングの安定性も重要になります。

リソグラフィーにおすすめのレーザー

英国最大手のレーザーメーカーであるNovanta（Laser Quantum）社は、世界中の研究機関における理化学用途や生産装置組み込み用といった工業用途など、幅広い分野にその製品が採用されています。全てのモデルがインターネット回線を介してエンジニアがリアルで診断/調整を行うことが出来る機能を有しており、非常にメンテナンス性に優れています。

gemシリーズ　

gemシリーズは473 nm、532 nm、660 nmの出力オプションで利用可能で、優れた出力パワーを持っています。
gemは、ヘルメティックシールとPowerLoQアクティブファーストフィードバックシステムの組み合わせにより、すべての出力ビーム特性で優れた安定性を実現できます。すべてのシステムはシングルトラバースモードを持っています。大変コンパクトで、現場での設置も容易です。
レーザーリソグラフィーにとって、gemシリーズが低いM2値と回折限界ビームを持っており、波長によってビーム最小径を制限可能であるという高品質なビーム特性がある点は大変重要です。サンプルの熱負荷が問題となる場合、システムの電流/パワーは完全に制御可能であり、レーザーリソグラフィープロセスを最適化できます。（Novanta社HPより要約）

米国Photonics Industries 社は、イントラキャビティ高調波固体レーザーの先駆者として、高出力・高調波のレーザーシステムとアプリケーションの開発に取り組むメーカーです。お客様の幅広いニーズに応えることができ、異なるさまざまな分野の用途に使用することができるレーザーシステムを製造・設計し、提供しています。