最大10W 産業用空冷ピコ秒レーザー
RX-ACレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム（短パルスレーザーシステム）の空冷タイプです。加工含め様々な産業用途にお使い頂いております。
MAKER
Photonics Industries International
フォトニクス・インダストリーズ・インターナショナル社は、イントラキャビティ高調波固体レーザーの先駆者として、高出力・高調波のレーザーシステムとアプリケーションの開発に取り組むメーカーです。
アメリカ・ニューヨーク州のボヘミヤに1993年に創設され、以来20以上の特許を取得。米国最大のフォトニクス関連カンファレンス「CLEO」で最優秀新製品賞を受賞するなど、輝かしい実績を持つ会社でもあります。お客様の幅広いニーズに応えることができ、異なるさまざまな分野の用途に使用することができるレーザーシステムを製造・設計し、提供しています。
日本国内にフォトニクス・インダストリーズ・インターナショナル社のメンテナンス専門の子会社であるPIKK（フォトニクス・インダストリーズ・インターナショナル株式会社）がございます。PIKK内にクリーンブースを設け、トレーニングを受けた専任の日本人エンジニアが常駐しています。レーザーシステムのトラブル時にはお客様先に訪問しての作業、またレーザーシステムをお預かりした場合でも日本国内での修理サポートが可能なため、ダウンタイムの短縮にも繋がります。
条件に一致する製品は12件あります
最大150W 産業用ピコ秒レーザー
RXレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム（短パルスレーザーシステム）です。加工含め様々な産業用途にお使い頂いております。
最大4mJ 高パルスエネルギー ピコ秒レーザー
RGLXレーザーシステムは、ピコ秒でありながら1064nmモデルは最大4ｍJ＠1kHz、532nmモデルは最大2.5mJ＠1kHzを可能とする高パルスエネルギーピコ秒レーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DCシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒完全空冷小型レーザー
DX-ACシリーズは完全空冷、かつ共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用しているコンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン（特許取得済）を採用している、最大80W＠532nm、最大50W＠355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
コンパクト空冷 LD励起固体ナノ秒レーザーシステム
DPシリーズは空冷、<10nsの短パルス幅、最大パルスエネルギー50mJ＠1030nmを発振するコンパクト、高パルスエネルギー・ナノ秒DPSSレーザーシステムです。1064nm、1053nm、1030nm、532nm、527nm、515nm、355nm、351nm、343nm、266nm、263nm、257nm発振自動切換モデルや、繰返し周波数100Hzモデル、1kHzモデルなど様々なラインナップがあります。
最大35mJ@1kHz LD励起固体ナノ秒レーザーシステム
発振波長527nm(GRN)、最大35mJ@1kHzという高パルスエネルギーと高ビーム品質(M2＜1.2)を兼ね備えたLD励起固体パルスレーザーです。
マルチモード高パルスエネルギーレーザー
DMシリーズはPhotonics Industries International社レーザーの中で最も高いパルスエネルギーを発振するように設計されたナノ秒DPSSレーザーシステムです。Nd:YAG、Nd:YLFを媒体とし、最大100ｍJ＠527nm(1kHz)モデルや最大50kHz繰返し周波数モデルまでラインナップしています。
マルチモード高パルスエネルギーレーザー デュアルヘッドタイプ
DM Dual Headシリーズは、高パルスエネルギー/高出力DMレーザーシステム2台をコンバインすることで最大200ｍJ＠527nmや最大400W＠10kHzを実現したデュアルヘッドレーザーシステムです。各レーザーヘッドは独立して制御が可能なため、お客様の任意のタイミングで各レーザー光を発振制御することが可能です。
サブナノ秒レーザー
SNレーザーシステムは、高い出力/パルスエネルギーとナノ秒より短いパルス幅を実現するために開発されたサブナノ秒レーザーシステムです。パルス幅は200ps to 5ns、最大250W/5ｍJまでモデルラインナップしています。
一体型チューナブルレーザー
自社製DPSSレーザーを励起光源として使用したOPOレーザーやTi:サファイアレーザーシステムです。OPOレーザーは高パルスエネルギーレーザーを励起光源としてｍJクラスの高パルスエネルギーを発振することが最大の特徴です。Ti:サファイアレーザーは高繰返し、狭線幅(1-3GHz)が特徴の波長可変レーザーシステムです。
