ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン(特許取得済)を採用している、最大80W@532nm、最大50W@355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
ソーラーパネルの製造において、重要な工程の一つは、太陽光発電(フォトボルタイク)材料を個々のセルに合わせてスクライブ(彫刻)することです。
レーザーを用いることで、以下のような利点があります。
• 高速での生産に対応でき、動作が静かで、安全に操作できるため、クリーンな製造環境が保たれる。
• 他のプロセスでは得られない高い精度と正確性。
• レーザービームで太陽光発電材料の薄い層を基板ガラスまでスクライブし、パネル上に個別の電気回路セルを大量に作成することが可能。
レーザースクライブ用途には、米国Photonics Industries社製が多く使用されております。米国Photonics Industries 社は、イントラキャビティ高調波固体レーザーの先駆者として、高出力・高調波のレーザーシステムとアプリケーションの開発に取り組むメーカーです。お客様の幅広いニーズに応えることができ、異なるさまざまな分野の用途に使用することができるレーザーシステムを製造・設計し、提供しています。
1064nm(IR)、532nm(Green)、355nm(UV)、266nm(DUV)、出力/繰返し周波数などから最適なレーザーシステムをご提案致します。
ナノ秒高出力レーザー
DXレーザーシステムは共振器内に高調波結晶を配置することで高い波長変換効率と結晶の長寿命化を実現するイントラキャビティーデザイン(特許取得済)を採用している、最大80W@532nm、最大50W@355nmを発振する高出力・コンパクト、ナノ秒DPSSレーザーシステムです。
最大160W 産業用ピコ秒レーザー
RXレーザーシステムは、特許取得済みのpulse selection技術により世界中で数百台の納入実績がある産業用ピコ秒レーザーRGシリーズから誕生した新型コンパクト・ピコ秒レーザーシステム(短パルスレーザーシステム)です。加工含め様々な産業用途にお使い頂いております。