APPLICATION リソグラフィー

リソグラフィー(フォトリソグラフィー)とは、物質の表面に感光性の物質を塗り、表面をパターン状に露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを創り出す技術です。半導体リソグラフィーなどとも呼ばれ、半導体素子や液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられています。

レーザーを使用することで、様々なパターン回路を直接作成できます。サーマルプレートは高パルスレーザーを必要としますが、ポリマープレートやハロゲン化銀プレートは400~700nmの波長範囲で低いエネルギーを必要とします。生成物の強度の違いをなくすために、レーザーの出力が安定していることが重要です。また、ポインティングの安定性も重要になります。

◎リソグラフィー用で利用されるレーザー◎
・Photonics Industries 社製「RGLシリーズ」
・Laser Quantum 社製「gemシリーズ」

全2件の製品があります

ピコ秒高パルスエネルギーレーザー

RGLシリーズ

1064nm532nm
最大4ｍJ

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モデル名	平均出力	パルスエネルギー	パルス幅
RGL-1064-2	2W@1kHz	2mJ＠1kHz	< 25ps
RGL-1064-4	4W@1kHz	4mJ＠1kHz	50ps（nominal）
RGL 532-1.5	1.5W@1kHz	1.5mJ＠1kHz	< 25ps
RGL 532-2.5	2.5W@1kHz	2.5mJ＠1kHz	50ps（nominal）

装置組込みに最適なコンパクトCWレーザー

gemシリーズ

671nm660nm640nm561nm532nm473nm
最大1W

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モデル名	平均出力	線幅	出力安定性	光ノイズ
gem 473	50mW、100mW、250mW、500mW	40GHz	<1.0%rms（温度一定、100時間以上測定）	<1.0%rms
gem 532	50mW、100mW、250mW、500mW、750mW、1W、2W	30GHz	<0.8 %rms（温度一定、100時間以上測定）	<0.8%rms
gem 561	50mW、100mW、250mW、500mW、1W	40GHz	<1.0%rms（温度一定、100時間以上測定）	<1.5%rms
gem 640	50mW、100mW、250mW、500mW	40GHz	<0.8%rms（温度一定、100時間以上測定）	<0.8%rms
gem 660	50mW、100mW、250mW、500mW、750mW、1W	30GHz	<1.0%rms（温度一定、100時間以上測定）	<0.6%rms
gem 671	50mW、100mW、250mW、500mW、750mW	30GHz	<1.0%rms（温度一定、100時間以上測定）	<0.6%rms