APPLICATION

リソグラフィー

リソグラフィー(フォトリソグラフィー)とは、物質の表面に感光性の物質を塗り、表面をパターン状に露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを創り出す技術です。半導体リソグラフィーなどとも呼ばれ、半導体素子や液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられています。

レーザーを使用することで、様々なパターン回路を直接作成できます。サーマルプレートは高パルスレーザーを必要としますが、ポリマープレートやハロゲン化銀プレートは400~700nmの波長範囲で低いエネルギーを必要とします。生成物の強度の違いをなくすために、レーザーの出力が安定していることが重要です。また、ポインティングの安定性も重要になります。

◎リソグラフィー用で利用されるレーザー◎
・Photonics Industries 社製「RGLシリーズ
・Laser Quantum 社製「gemシリーズ

 

レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムや加工装置のご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。

条件に一致する製品は2件あります

装置組込みに最適なコンパクトCWレーザー

gemシリーズ

671nm660nm640nm561nm532nm473nm
最大2W
ラインナップを見る(6)
モデル名 平均出力線幅出力安定性光ノイズ
gem 473 100mW、250mW、500mW40GHz<1.0%rms(温度一定、100時間以上測定)<1.0%rms
gem 532 100mW、250mW、500mW、1W、1.5W、2W30GHz<0.8 %rms(温度一定、100時間以上測定)<0.8%rms
gem 561 100mW、250mW、500mW、750mW、1W40GHz<1.0%rms(温度一定、100時間以上測定)<1.5%rms
gem 640 100mW、250mW、500mW40GHz<0.8%rms(温度一定、100時間以上測定)<0.8%rms
gem 660 100mW、250mW、500mW、750mW、1W30GHz<1.0%rms(温度一定、100時間以上測定)<0.6%rms
gem 671 100mW、250mW、500mW、750mW30GHz<1.0%rms(温度一定、100時間以上測定)<0.6%rms

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