リソグラフィー(フォトリソグラフィー)とは、物質の表面に感光性の物質を塗り、表面をパターン状に露光することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを創り出す技術です。半導体リソグラフィーなどとも呼ばれ、半導体素子や液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられています。
レーザーを使用することで、様々なパターン回路を直接作成できます。サーマルプレートは高パルスレーザーを必要としますが、ポリマープレートやハロゲン化銀プレートは400~700nmの波長範囲で低いエネルギーを必要とします。生成物の強度の違いをなくすために、レーザーの出力が安定していることが重要です。また、ポインティングの安定性も重要になります。
◎リソグラフィー用で利用されるレーザー◎
・Photonics Industries 社製「RGLシリーズ」
・Laser Quantum 社製「gemシリーズ」
レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムや加工装置のご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。
| モデル名 | 平均出力 | パルスエネルギー | パルス幅 |
|---|---|---|---|
| RGL-1064-2 | [email protected] | 2mJ＠1kHz | < 25ps |
| RGL-1064-4 | [email protected] | 4mJ＠1kHz | 50ps（nominal） |
| RGL 532-1.5 | [email protected] | 1.5mJ＠1kHz | < 25ps |
| RGL 532-2.5 | [email protected] | 2.5mJ＠1kHz | 50ps（nominal） |
| モデル名 | 平均出力 | 線幅 | 出力安定性 | 光ノイズ |
|---|---|---|---|---|
| gem 473 | 100mW、250mW、500mW | 40GHz | <1.0%rms（温度一定、100時間以上測定） | <1.0%rms |
| gem 532 | 100mW、250mW、500mW、1W、1.5W、2W | 30GHz | <0.8 %rms（温度一定、100時間以上測定） | <0.8%rms |
| gem 561 | 100mW、250mW、500mW、750ｍW、1W | 40GHz | <1.0%rms（温度一定、100時間以上測定） | <1.5%rms |
| gem 640 | 100mW、250mW、500mW | 40GHz | <0.8%rms（温度一定、100時間以上測定） | <0.8%rms |
| gem 660 | 100mW、250mW、500mW、750mW、1W | 30GHz | <1.0%rms（温度一定、100時間以上測定） | <0.6%rms |
| gem 671 | 100mW、250mW、500mW、750mW | 30GHz | <1.0%rms（温度一定、100時間以上測定） | <0.6%rms |
