モデル名 | 平均出力 | 線幅 | 出力安定性 | 光ノイズ |
---|---|---|---|---|
gem 473 | 100mW、250mW、500mW | 40GHz | <1.0%rms(温度一定、100時間以上測定) | <1.0%rms |
gem 532 | 100mW、250mW、500mW、1W、1.5W、2W | 30GHz | <0.8 %rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.8%rms |
gem 561 | 100mW、250mW、500mW、750mW、1W | 40GHz | <1.0%rms(温度一定、100時間以上測定) | <1.5%rms |
gem 640 | 100mW、250mW、500mW | 40GHz | <0.8%rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.8%rms |
gem 660 | 100mW、250mW、500mW、750mW、1W | 30GHz | <1.0%rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.6%rms |
gem 671 | 100mW、250mW、500mW、750mW | 30GHz | <1.0%rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.6%rms |
フォトルミネッセンス
フォトルミネッセンスとは、物質に光を照射し、励起された電子が基底状態に遷移する際に発生する光を意味し、その光を観測する方法をフォトルミネッセンス/フォトルミネッセンス法と呼ばれています。 結晶中の欠陥、不純物の定量、発光材料や禁制帯の評価用途に用いられています。
Laser Quantum(レーザーカンタム)社のレーザーシステムは豊富な発振波長ラインナップ(1064nm、671nm、660nm、640nm、561nm、532nm、473nm)、また各レーザーシステムは優れたレーザー出力安定性、低ノイズを兼ね備えている為、フォトルミネッセンス用途で世界中に数多くの納入実績があります。
gem532レーザーシステムは出力安定性が<0.8%rmsと高く、100mW~最大2Wまで出力モデルをラインナップ、PC接続で操作する小型フルリモートタイプ、かつ低価格で多くのお客様にご使用頂いているモデルです。
コンパクト、フルリモート制御gemレーザーシステム
ventus532レーザーシステムはgem532レーザーシステムよりさらに高い安定、低ノイズを必要とするお客様向けに出力安定性<0.4%rms、最大1.5Wまでラインナップした高安定性モデルです。レーザー電源にディスプレイと設定ボタンを搭載したスマート電源が標準の為、PCに接続せず出力調整などの操作を行うことが出来ます。
高安定性、高機能ventusレーザーシステム
豊富なラインナップより発振波長、出力帯、操作性、価格等にあわせてお客様に最適なモデルをご提案致しますので、フォトルミネッセンス用にレーザーシステムをお探しの方はお気軽にお問合せ下さい。
「フォトルミネッセンス」関連論文
–High-Pressure Synthesis of Boron-Doped Ultrasmall Diamonds from an Organic Compound
レーザー詳細仕様のご説明、お客様のご用途/ニーズにあわせてレーザーシステムのご提案を致しますので、お電話(03-3351-0717)もしくはお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。
モデル名 | 平均出力 | 線幅 | 出力安定性 | 光ノイズ |
---|---|---|---|---|
ventus 473 | 100mW、250mW、350mW | 40GHz | <0.6% rms(温度一定、100時間以上測定) | ≤0.7% RMS |
ventus 532 | 100mW、250mW、500mW、750mW、1W、1.5W | 30GHz | <0.4% rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.15% RMS (<500 mW 0.4% RMS) |
ventus solo 532 | 100mW、250mW、500mW、750mW | 10GHz | <0.4% rms(温度一定、100時間以上測定) | <1% rms |
ventus 561 | 100mW、250mW、350mW、500mW、750mW | 40GHz | <1.0% rms(温度一定、100時間以上測定) | <1.5% rms |
ventus 660 | 100mW、250mW、500mW、750mW | 30GHz | <0.5% rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.5 % rms |
ventus 671 | 100mW、250mW、500mW | 30GHz | <1.0% rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.6% rms |
モデル名 | 平均出力 | 出力安定性 | 光ノイズ |
---|---|---|---|
opus 532 | 2W、3W、4W、5W、6W | ≤0.2%rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.08%rms |
opus 660 | 1W、1.5W | <1%rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.6%rms |
opus 1064 | 2W、4W、6W、8W、10W | <0.1%rms(温度一定、100時間以上測定) | <0.15%rms |
モデル名 | 平均出力 | ビーム径 | モード | 出力安定性 | 光ノイズ |
---|---|---|---|---|---|
axiom 660 | 3W、4W、5W、6W | 0.85mm ± 0.2mm | TEM00 - M2 < 1.2 | <1.0% rms | <1.0% rms |
axiom 532 | 4W、6W、8W、10W、12W | 2.25 mm ± 0.25 mm | TEM00 - M2 < 1.1 | <0.1% RMS (<10W) <0.05% RMS (10W~12W) | <0.03% RMS (<10W) <0.02% RMS (10W~12W) |
製品のお問い合わせ、お見積りはお気軽に
アプリケーションから探す
加工
- ITOパターニング(3)
- 穴あけ加工(8)
- アニーリング(7)
- アルミナセラミックス加工(3)
- 液晶ポリマー(LCP)加工(1)
- 化学強化ガラス(ゴリラガラス)加工(1)
- 樹脂加工(4)
- スクライブ(9)
- ステンレス(SUS)加工(3)
- 切断(7)
- ダイシング(5)
- レーザーリペア(3)
- 銅加工(3)
- 半導体検査(4)
- 非熱加工(4)
- 有機ELディスプレイ(1)
- リソグラフィー(2)
- レーザークリーニング(5)
- レーザーピーニング(8)
- レーザー微細加工(マイクロマシニング)(4)
- レーザーマーキング(7)
理化学
検査
- 多光子励起顕微鏡(3)
- DNAシーケンサ(3)
- テラヘルツ時間領域分光法(3)
- 半導体検査(4)
- 光ピンセット、光マニピュレーション、光トラップ(3)
- フローサイトメトリーと細胞選別(2)
- ホログラフィ(1)
評価(分析)
- ASOPS(高速非同期光サンプリング法)(3)
- LIBS(13)
- レーザーアブレーション(11)
- 光周波数コム(2)
- STED顕微鏡(4)
- 生体イメージング(5)
- 多光子励起顕微鏡(3)
- テラヘルツ時間領域分光法(3)
- 光音響イメージング(3)
- 光ピンセット、光マニピュレーション、光トラップ(3)
- 分光(12)
- ラマン分光(6)
- LIF(14)
計測
- ASOPS(高速非同期光サンプリング法)(3)
- LIBS(13)
- LIDAR(大気・エアロゾル計測)(13)
- PIV(18)
- 衛星レーザ測距 (SLR)(1)
- 干渉計(1)
- 軍事用レーザー(2)
- 蛍光イメージング(3)
- 光周波数コム(2)
- STED顕微鏡(4)
- 生体イメージング(5)
- ダイヤモンドNVセンター励起(2)
- DNAシーケンサ(3)
- 燃焼研究(7)
- 光音響イメージング(3)
- フォトルミネッセンス(4)
- ブリルアン散乱(1)
- 分光(12)
- ホログラフィ(1)
- ラマン分光(6)
- LIF(14)
- リモートセンシング(2)
- パーティクルカウンティング/微粒子計測(0)
- 粒子径測定(2)
- レーザードップラー流速計(3)